4006-635-996,010,69200960
沈陽(yáng)科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500 真空室結(jié)構(gòu):方形前開(kāi)門 真空室尺寸:p500x500x500mm 極限真空度:≤3.0E-5Pa 沉積源:永磁靶4套，2英寸 樣品尺寸，溫度:p4英寸，1片，最高800°C 占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約2米x1.7米x2米 電控描述:全自動(dòng) 工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%
更新時(shí)間：2025-06-26
產(chǎn)品型號(hào)：PVD500
瀏覽量：201
沈陽(yáng)科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450 真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開(kāi)門 真空室尺寸:φ450x400mm 極限真空度:≤6.6E-6Pa 沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以向上濺射或向下濺射。 樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，最高800C 占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約1米x1.8米x2米 電控描述:全自動(dòng) 工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%
更新時(shí)間：2025-06-26產(chǎn)品型號(hào)：TRP450瀏覽量：209掃碼加微信，了解最新動(dòng)態(tài)
Copyright © 2025 北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司版權(quán)所有
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登錄 備案號(hào)：京ICP備10033203號(hào)-2 sitemap.xml
當(dāng)前位置：
優(yōu)勢(shì)經(jīng)銷代理品牌