高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開(kāi)門(mén)

真空室尺寸:φ450x400mm

極限真空度:≤6.6E-6Pa

沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以向上濺射或向下濺射。

樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，最高800C

占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動(dòng)

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%

特色參數(shù):

產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

設(shè)備用途：
可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。

用戶評(píng)價(jià)：
TRP-450高真空鍍膜機(jī)其設(shè)備質(zhì)量過(guò)關(guān)，功能齊全，性能穩(wěn)定，自動(dòng)化程度高，抽氣極速平穩(wěn)，電源穩(wěn)定可靠，氣路流暢密閉，鍍膜質(zhì)量平整光滑，均勻致密，結(jié)合力強(qiáng)，且系統(tǒng)操控智能，便捷，可滿足科研實(shí)驗(yàn)與生產(chǎn)制造的需求，是一款優(yōu)秀的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)?！本┦┘夹g(shù)研究院有限公司 李老師